ডি কে আর্ক আয়ন আবরণ

আর্ক আয়ন আবরণ

পিভিডি- শারীরিক বাষ্প জবানবন্দি
শারীরিক বাষ্প জমার এক ফর্ম (পিভিডি লেপ) হ'ল আর্ক আয়ন আবরণ। পিভিডি লেপের ইতিহাসটি আর্ক প্রযুক্তি ব্যবহার শুরু করে, যার অর্ক ওয়েল্ডিংয়ে এর উত্স রয়েছে।

লক্ষ্য

বাষ্পীভবন করতে ধাতবটি একটি ভ্যাকুয়াম চেম্বারের অভ্যন্তরের বিপরীতে শক্ত ব্লক (লক্ষ্য) হিসাবে স্থাপন করা হয়। একটি গ্লো স্রাব জ্বলিত হয় এবং একটি পদচিহ্ন রেখে টার্গেটে চলে। কয়েক মিমি ব্যাসের লক্ষ্যমাত্রার ছোট ছোট দাগগুলি বাষ্পীভূত হয়। চাপের চলাচল চৌম্বক দ্বারা পরিচালিত হতে পারে।

প্লাজমা লেপ

বাষ্পীভূত আয়নযুক্ত উপাদানটি ভ্যাকুয়াম চেম্বারের অভ্যন্তরে ঘোরানো একটি পণ্যতে প্লাজমা লেপ হিসাবে ব্যবহৃত হয়। আর্ক লেপগুলি সরঞ্জাম লেপ এবং উপাদান লেপ হিসাবে ব্যবহৃত হয়।

আবরণ উদাহরণ

আর্ক লেপের উদাহরণগুলি হ'ল টিন, আইটিন, এআইসিআরএন, টিসিন, টিআইসিএন, সিআরসিএন এবং সিআরএন লেপ

পিভিডি আর্ক প্রক্রিয়াটির পরিকল্পনামূলক দৃশ্য।

আর্ক লেপ প্রযুক্তির বৈশিষ্ট্যযুক্ত:

উচ্চ জমার হার (1 ~ 3 μm/ঘন্টা) উচ্চ আয়নিসেশন, যার ফলে লক্ষ্য শীতল হওয়ার সাথে সাথে ভাল আনুগত্য এবং ঘন আবরণ তৈরি হয়, স্তরটিতে সামান্য তাপ উত্পন্ন হয়, এমনকি 100 of এর নীচে তাপমাত্রায় লেপগুলিও সম্ভবত ধাতবগুলির বেশ কয়েকটি রচনাগুলি বাষ্পীভূত হতে পারে, এর সংস্থায় বাকী দৃ marget ় লক্ষ্যটি ছাড়িয়ে যায়। ক্যাথোডগুলি যে কোনও অবস্থানে স্থাপন করা যেতে পারে (অনুভূমিক, উল্লম্ব, উল্টো), যা নমনীয় মেশিনের নকশা সম্ভব করে তোলে।

আর্ক লেপ প্রযুক্তির প্রধান অসুবিধাগুলি:

সীমিত ধরণের লক্ষ্য উপকরণ - কেবল ধাতু (কোনও অক্সাইড নেই) - যা উচ্চ বর্তমান ঘনত্বের কারণে খুব কম বাষ্পীভবন তাপমাত্রা নেই তবে লক্ষ্য উপাদানগুলির কিছু পরিমাণ ছোট তরল ফোঁটা হিসাবে বের করে দেওয়া হয় .3৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩৩ হির