কীভাবে উচ্চ ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন লেপ মেশিনটি অ্যাপ্লিকেশনটির উপর নির্ভর করে মসৃণ, চকচকে বা ম্যাট ফিনিস অর্জনের মতো আবরণগুলির উপস্থিতি উন্নত করে?

দ্য বাষ্পীভবন হার উচ্চ-ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন প্রক্রিয়াটির অন্যতম গুরুত্বপূর্ণ কারণ এবং এটি নির্ধারণে প্রত্যক্ষ ভূমিকা পালন করে টেক্সচার এবং অভিন্নতা আবরণ। একটি উচ্চ ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন লেপ মেশিন , উপাদানটি যে হারে বাষ্পীভূত হয় তা যথাযথভাবে নিয়ন্ত্রণ করা যেতে পারে, যা নির্মাতাদের পৃষ্ঠের সমাপ্তি সূক্ষ্ম-সুর করতে দেয়। একটি ধীর বাষ্পীভবন হার একটি বাড়ে ঘন এবং মসৃণ আবরণ , বাষ্পীভূত উপাদানের ঘনত্ব এবং অবিচ্ছিন্ন স্তর গঠনের জন্য আরও সময় থাকে। এই প্রক্রিয়া ফলাফল একটি অত্যন্ত প্রতিবিম্বিত, চকচকে সমাপ্তি , কম পৃষ্ঠের অসম্পূর্ণতা সহ। বিপরীতে, একটি দ্রুত বাষ্পীভবন হার একটি হতে পারে রাউগার, আরও দানাদার পৃষ্ঠ , যা একটি জন্য লক্ষ্য করার সময় দরকারী ম্যাট বা সাটিন সমাপ্তি। বাষ্পীভবন হার সামঞ্জস্য করে, মেশিনটি অ্যাপ্লিকেশনটির নির্দিষ্ট প্রয়োজনের উপর ভিত্তি করে কাস্টমাইজেশনের অনুমতি দিয়ে লেপের উপস্থিতি এবং টেক্সচার নিয়ন্ত্রণে নমনীয়তা সরবরাহ করে।

দ্য সাবস্ট্রেট তাপমাত্রা জবানবন্দির সময় প্রক্রিয়াটির উপর উল্লেখযোগ্য প্রভাব রয়েছে মসৃণতা এবং আঠালো আবরণ। উচ্চতর তাপমাত্রায়, সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠটি বাষ্পীভূত উপাদানের কাছে আরও গ্রহণযোগ্য হয়ে ওঠে, উত্সাহিত করে আরও ভাল আনুগত্য এবং অভিন্নতা । লেপ উপাদানগুলির অণু বা পরমাণু আরও অবাধে স্থানান্তর করতে পারে, আরও অর্ডার করা, ঘন চলচ্চিত্র গঠন করে যা একটিতে অবদান রাখে চকচকে, মসৃণ চেহারা । নিম্ন সাবস্ট্রেট তাপমাত্রা, তবে ফলাফল কম গতিশীলতা বাষ্পীভূত কণাগুলির জন্য, এ এর দিকে পরিচালিত করে রাউগার, আরও ছিদ্রযুক্ত আবরণ । এই নিম্ন তাপমাত্রার পরিবেশ একটি দিয়ে আবরণ তৈরি করার জন্য আদর্শ ম্যাট বা নিস্তেজ সমাপ্তি , যেখানে আরও টেক্সচারযুক্ত পৃষ্ঠটি কাঙ্ক্ষিত। মধ্যে উচ্চ ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন আবরণ মেশিন , সাবস্ট্রেট তাপমাত্রার সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ অ্যাপ্লিকেশনটির জন্য প্রয়োজনীয় পৃষ্ঠের বৈশিষ্ট্যগুলি অর্জনে গুরুত্বপূর্ণ, এর জন্য কিনা অপটিকাল আবরণ , আলংকারিক সমাপ্তি , বা কার্যকরী পাতলা ছায়াছবি .

দ্য জমা কোণ - এটি হ'ল, যে কোণে বাষ্পীভূত উপাদানটি সাবস্ট্রেটকে আঘাত করে - বিভিন্ন লেপ প্রভাবগুলি অর্জনের জন্য সামঞ্জস্য করা যেতে পারে। যখন বাষ্পীভূত উপাদান জমা হয় লম্ব সাবস্ট্রেটের কাছে (সাধারণ ঘটনা), ফিল্মটি ঝোঁকায় মসৃণ এবং অবিচ্ছিন্ন , কারণ উপাদানটি ঘন, অভিন্ন স্তর গঠনের সম্ভাবনা বেশি। এই ফলাফল একটি চকচকে, প্রতিফলিত সমাপ্তি । তবে, যদি জমা দেওয়ার কোণ হয় তির্যক , যার অর্থ বাষ্পীভূত উপাদান একটি কোণে সাবস্ট্রেটকে আঘাত করে, লেপটি প্রায়শই একটি থাকে আরও টেক্সচার্ড পৃষ্ঠ । এই তির্যক জমা দেওয়ার কৌশলটি তৈরির জন্য দরকারী ম্যাট সমাপ্তি , যেমন এটি ফলাফল আরও পৃষ্ঠ রুক্ষতা যেভাবে উপাদানটি সাবস্ট্রেটের সাথে যোগাযোগ করে তার কারণে। অতিরিক্তভাবে, তির্যক জমা তৈরি করতে পারে গ্রেডিয়েন্টস লেপের বেধ এবং টেক্সচারে, যা জন্য পছন্দসই হতে পারে আলংকারিক বা কার্যকরী আবরণ নির্দিষ্ট নান্দনিক বৈশিষ্ট্য সহ।

উপাদান প্রবাহ বোঝায় ঘনত্ব সময়ের সাথে সাথে সাবস্ট্রেটে পৌঁছে যাওয়া বাষ্পীভূত কণাগুলির। মধ্যে উচ্চ ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন আবরণ মেশিন , উপাদান প্রবাহ সরাসরি সম্পর্কিত জবানবন্দি হার এবং পৃষ্ঠের সমাপ্তি প্রভাবিত করতে নিয়ন্ত্রণ করা যেতে পারে। ক উচ্চ প্রবাহ ক ঘন, ঘন লেপ , যা সাধারণত একটি ফলাফল চকচকে, মসৃণ পৃষ্ঠ । উপাদানগুলি আরও দ্রুত জমা হওয়ার সাথে সাথে পৃষ্ঠের রুক্ষ বা অনিয়মিত হওয়ার জন্য কম সময় থাকে, এটি আরও পালিশ ফিনিস তৈরি করে। বিপরীতে, ক নিম্ন ফ্লাক্স রেট ফলাফল পাতলা আবরণ , যা হতে পারে আরও পৃষ্ঠ রুক্ষতা এবং ক ম্যাট বা সাটিন ফিনিস । উপাদান প্রবাহকে সূক্ষ্মভাবে নিয়ন্ত্রণ করার ক্ষমতা নির্মাতাদের নির্দিষ্ট ভিজ্যুয়াল এবং কার্যকরী প্রয়োজনীয়তাগুলি পূরণ করে এমন আবরণগুলি অর্জন করতে দেয়, যেমন প্রতিবিম্বিত চলচ্চিত্র বা অ্যান্টি-রিফ্লেক্টিভ আবরণ .

লেপ উপাদান জমা হওয়ার পরে, দ্য শীতল হার সাবস্ট্রেট এবং লেপের লেপের চূড়ান্ত উপস্থিতি নির্ধারণের জন্য আরও একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান। দ্রুত শীতল কারণ হতে পারে তাপ চাপ , নেতৃত্ব একটি রাউগার, কম ইউনিফর্ম লেপ এটি কারও জন্য কাঙ্ক্ষিত হতে পারে ম্যাট সমাপ্তি । অন্যদিকে, ধীরে ধীরে শীতল লেপ উপাদানগুলি আরও সমানভাবে স্থির হতে দেয়, একটি গঠন করে মসৃণ পৃষ্ঠ যে বাড়ায় চকচকে এবং অভিন্নতা আবরণ। কুলিং হার নিয়ন্ত্রণ করে, নির্মাতারা চূড়ান্ত আবরণ, ভারসাম্যহীন টেক্সচারটি নিয়ন্ত্রণ করতে পারে তাপীয় বৈশিষ্ট্য কাঙ্ক্ষিত সঙ্গে ভিজ্যুয়াল উপস্থিতি । কুলিং নিয়ন্ত্রণ বিশেষভাবে গুরুত্বপূর্ণ উচ্চ-কর্মক্ষমতা আবরণ সংবেদনশীল অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহৃত অপটিকাল লেন্স , সৌর কোষ , বা ইলেকট্রনিক্স .